La tecnología de monitoreo de gas láser in situ del instrumento Sifang ayuda a mejorar la calidad y la eficiencia del análisis de procesos industriales.

Nombre del producto: analizador de gas de proceso láser in situ

Modelo de producto: gastdl - 3100

El analizador de gas de proceso láser in situ gastdl - 3100 es un instrumento de análisis óptico de alto rendimiento basado en la tecnología de espectrometría de absorción láser de semiconductores tunables (tdlas), que adopta un diseño de inyección y se puede utilizar para el control de gas de proceso industrial; Su tiempo de respuesta es rápido, generalmente se calcula en segundos en la medición in situ, evitando el retraso de tiempo causado por la medición del estilo de recolección, y puede responder a la concentración de gas medida en línea y a tiempo.

Características del producto del analizador de gas de proceso láser in situ:

1. utilizando la tecnología tdlas, el gas medido no se ve perturbado por el gas de fondo.

2. instalación in situ, sin necesidad de un sistema de preprocesamiento de muestreo

3. respuesta rápida (t90 ≤ 4s), que puede reaccionar a la concentración de gas en tiempo real

4. medición en línea en tiempo real, la concentración de gas no es fácil de distorsionar, la precisión de medición es alta

5. buena adaptabilidad en entornos de medición hostiles como Alta temperatura, alto polvo, alta humedad, alta corrosividad y alta velocidad de flujo.

6. diseño a prueba de explosiones y explosiones, alto factor de Seguridad

7. construcción simple, sin elementos móviles, sin elementos de pérdida, sin mantenimiento

Parámetros técnicos del analizador de gas de proceso láser in situ:

Medible: o2, co, co2, CH4 * componentes de gas

* nota: cada conjunto de analizadores mide la concentración de gas de un solo componente.