Microscopio para IC FJ - 5

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Descripción general

Detalles del producto el microscopio metalográfico de grado de investigación FJ - 5 está desarrollado para las necesidades de la industria de semiconductores, la industria de fabricación de pastillas de silicio, la industria de la información electrónica y la industria metalúrgica. como usuario del microscopio metalográfico, puede experimentar sus propiedades súper fuertes cuando se utiliza, y puede ser ampliamente utilizado en semiconductores. FPD、 Encapsulamiento de circuitos, sustrato de circuitos, materiales, piezas fundidas / metálicas / cerámicas, detección de moldes de precisión

Detalles del producto

El microscopio metalográfico de grado de investigación FJ - 5 se desarrolla para las necesidades de la industria de semiconductores, la industria de fabricación de pastillas de silicio, la industria de la información electrónica y la industria metalúrgica. como usuario del microscopio metalográfico, puede experimentar su súper rendimiento cuando se utiliza, y puede ser ampliamente utilizado en semiconductores. FPD、 Encapsulamiento de circuitos, sustrato de circuitos, materiales, piezas fundidas / metálicas / cerámicas, detección de moldes de precisión. El instrumento adopta dos formas de iluminación, reflexión y transmisión, y puede realizar observaciones de campo oscuro, observación TIC y observación de polarización bajo iluminación de luz reflejada. Se hace una observación de campo brillante bajo la luz transmitida. Un sistema óptico estable y de alta calidad hace que la imagen sea más clara y el contraste sea mejor. El diseño que cumple con los requisitos de ergonomía le hace sentir cómodo y relajado en el Trabajo.
Descripción de las características
1. se utiliza la tecnología de imagen de lente objetivo del sistema de corrección de trayectoria óptica de alta resolución y larga distancia de trabajo uis.

2. se amplía la tecnología de reutilización de las lentes objetivo. las lentes teleobjetivo son compatibles con todos los métodos de observación, incluidos el método de visión clara y oscura, el método de polarización, el TIC y proporcionan una alta calidad de imagen clara en cada método de observación.

3. iluminación asférica Kohler para aumentar el brillo de observación.

4. wf10 × (phi25) gafas de visión súper grande, lentes metalográficas de campo brillante y oscuro a larga distancia de trabajo.

5. convertidor enchufable al dispositivo de interferencia diferencial tic.

Especificaciones técnicas
Cabeza de Observación	30 ° bisagras de tres mallas (50 mm - 75 mm)
Gafas oculares	Wf10 × / 25 mm
Gafas oculares	Wf10 × / 20 mm, con placa de División cruzada de 0,1 mm
Objetivo	El campo plano y el trabajo largo. Distancia objetivo de campo claro y oscuro: 5 × / 0.1b.d / w.d.29.4mm, 10 × / 0.25b.d / w.d.16mm, 20 × / 0.40b.d / w.d.10.6mm, 40 × / 0.60b.d / w.d.5.4mm,
Convertidor	Convertidor de cuatro agujeros con enchufe TIC
Plataforma	Plataforma móvil de doble capa
	Tamaño de la plataforma: 189mm × 160mm
	Rango de movimiento: 80 mm x 50 mm
Filtro de color	Filtro de color de placa enchufable (verde, azul, neutral)
Spotlight Mirror	N.a.1.25 reflector Abe con apertura variable y filtro de color
Enfoque	Enfoque concéntrico grueso y micro - movimiento, utilizando el mecanismo de transmisión de engranajes y estantes. El valor de la cuadrícula de preocupación es de 0002 mm
Fuente de luz	Iluminación transmitida: Lámpara halógena 12v / 50w, ac85v - 230v, brillo ajustable
Fuente de luz	Iluminación por caída: barra de luz con apertura y barra de luz de campo de visión, Lámpara halógena 12v / 50w, ac85v - 230v, brillo ajustable
Dispositivo de polarización	El espejo de desviación se puede girar 360 grados, y el espejo de desviación y el espejo de desviación se pueden mover del camino óptico.
Herramientas de detección	Regla de medición de 0,01 mm
Disponible para Anexos	Software de medición bidimensional
	Software profesional de análisis de imágenes metalográficas
	Iluminación por caída: Lámpara halógena 12v / 100w, ac85v - 230v, brillo ajustable
	Lente de campo abierto y oscuro de larga distancia de trabajo de campo plano: 50 × / 0.55b.d / w.d.5.1 mm, 80 × / 0.75b.d / w.d.4 mm, 100 × / 0.80b.d / w.d.3 mm
	Gafas micrométricas
	1,3 millones, 2 millones, 3 millones, 5 millones de píxeles de gafas electrónicas CMOS
	Dispositivo fotográfico e interfaz CC 0,5 ×, 0,57 ×, 0,75 ×
	TIC (10 ×, 20 ×, 40 ×, 100 ×)
	Niveladora
	Color 1 / 3 pulgadas de línea de transferencia 520

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