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Estación térmica de silicio rt400xd

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Descripción general

Estación térmica de silicio rt400xd

Detalles del producto

Rango de temperatura: temperatura ambiente a 400 ℃.

Plataforma de calefacción: Phi 200 mm

ángulo de disparo plano: - 40 ° ≤ Alfa ≤ 40 °, ángulo de disparo vertical de rayos: - 2 ° ≤ beta ≤ 70 °

Tasa de calentamiento inferior a 5 ° C / min

Medición principal de la temperatura: térmica, medición de la temperatura infrarroja (auxiliar)

Precisión de visualización / control de temperatura: 0,1 ° C / 0,5 ° C

Entorno experimental: la cavidad está cerrada y se puede cargar en la atmósfera

Modo de refrigeración: refrigeración por agua circulante

Control de temperatura: precisión del regulador nivel 0,2, control de inteligencia artificial eip, 50 programas

Software de control de temperatura: cambio de interfaz chino - inglés, control en tiempo real, corrección de temperatura multipunto, velocidad de temperatura, intervalo de control de temperatura, etc., visualización y registro de la curva de proceso

Controlador de movimiento: la plataforma térmica de un eje se mueve horizontalmente, la plataforma térmica de un eje gira y la medición de temperatura infrarroja de un eje se mueve. Control manual o de software.